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BS ISO 17560-2002

表面化学分析 次级离子质谱法 硅中硼深度压型的方法

Chemische Oberflaechenanalyse. Sekundaerionenmassenspektrometrie. Methode fuer die Tiefenprofilanalyse von Bor in Silizium Surface Chemical Analysis-Secondary-Ion Mass Spectrometry-Method for Depth Profiling of Boron in Silicon Analyse chimique des surfaces. Spectrometrie de masse des ions secondaires. Dosage du bore dans le silicium par profilage d'epaisseur

实施日期: 2002-08-28

中标分类号: G04 - 化工 - 基础标准与通用方法

ICS分类号: 71.040.40 - 化工技术 - 化学分析

标准组织: BS - 英国标准学会标准

全文来源: WF

中文关键词: 精整 含量测定 化学分析和试验 光谱测定法 掺杂剂 晶体

语种: 汉语

页数: 20

标准解读