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DIN 50451-2-2003

半导体工艺的材料检验 液体中痕量元素的测定 第2部分:用等离子激励发射光谱测定氢氟酸中的钙(Ca)、钴(Co)、铬(Cr)、铜(Cu)、铁(Fe)、镍(Ni)和锌(Zn)

Testing of materials for semiconductor technology; determination of traces of elements in liquids; Part 2: Calcium(Ca), cobalt(Co), chromium(Cr), copper(Cu), iron(Fe), nickel(Ni) and zinc(Zn) in hydrofluoric acid with plasma-induced emission spectroscopy

中标分类号: H80 - 冶金 - 半金属与半导体材料综合

ICS分类号: 29.045 - 电气工程 - 半导体材料

标准组织: DIN - 德国国家标准学会标准

全文来源: WF

中文关键词: 高纯度 检定 含量测定 发射分光光度测定法 氢氟酸 半导体工艺 化学分析和试验 液体 纯净水 微量元素 分析 金属 半导体工程 半导体 定义 微量元素分析 材料 试验 材料试验

语种: 汉语

页数: 4

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