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GB/T 14141-1993

硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定

Test method for sheet resistance of silicon epitaxial,diffused and ion-implanted layersusing a collinear four-probe array

实施日期: 1993-10-01

作废日期: 2010-06-01

中标分类号: H21 - 冶金 - 金属物理性能试验方法

ICS分类号: 29.040.30 - 电气工程 - 半导体材料

标准组织: GB - 国家标准

全文来源: 质检出版社

中文关键词: 扩散 电阻测量 离子 外延层

语种: 汉语

页数: 0

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