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ISO 17335-2004

表面化学分析 硅片工作标准物质表面要素采集的化学方法及用全反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定

Surface chemical analysis. Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working-reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence spectroscopy (TXRF)

中标分类号: N78 - 仪器、仪表 - X射线、磁粉、荧光及其他探伤仪器

ICS分类号: 71.040.40 - 化工技术 - 化学分析

标准组织: ISO - 国际标准化组织标准

全文来源: WF

语种: 汉语

标准解读